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井上　俊夫

Code: 100091513

82.0%
Success Rate
Granted / 特許査定
50
82.0% of total
Not Granted / 非特許
11
18.0%
Avg. Time / 平均期間
1033d
~2.8 yrs
Total / 総出願数
61
Applications

Patent Status

50 Granted / 特許査定
82.0%
11 Not Granted / 非特許
18.0%

Time to Grant (days from publication)

Min
218
days
Median
1072
days
Max
1953
days
Based on 50 granted patents

Charts

Success Rate Trend / 特許率の推移

Time To Grant Trend (Days) / 特許査定期間の推移（日数）

Patent Volume By Year / 年別特許件数

Performance by Year

Year Granted Not Granted Rate
2010 50 11 82.0%

Granted Patents (50)

圧電センサ及び感知装置
JP2010002413
Google Patents
Filed: 1/7/2010 Granted: 8/17/2012 953 days
感知装置
JP2010004388
Google Patents
Filed: 1/7/2010 Granted: 8/13/2010 218 days
接触塔及び処理方法
JP2010005604
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 11/15/2013 1401 days
塩基性炭酸銅の製造方法
JP2010006658
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 11/9/2012 1030 days
生産システム用の設備及びこの設備を備えた生産工場
JP2010009508
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 8/10/2012 939 days
真空処理装置
JP2010010302
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 8/17/2012 946 days
処理装置
JP2010010304
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 8/24/2012 953 days
トランスバーサル型フィルタ
JP2010010961
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 12/24/2010 344 days
水晶振動子、電子部品、及び水晶振動子用素子の製造方法
JP2010011222
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 8/10/2012 939 days
水晶振動子の製造方法及び水晶振動子並びに電子部品
JP2010011352
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 12/21/2012 1072 days
排ガス浄化触媒、排ガス浄化触媒の製造方法及びモノリス触媒
JP2010012459
Google Patents
Filed: 1/21/2010 Granted: 2/21/2014 1492 days
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体
JP2010021446
Google Patents
Filed: 1/28/2010 Granted: 8/9/2013 1289 days
デュプレクサ
JP2010021718
Google Patents
Filed: 1/28/2010 Granted: 9/24/2010 239 days
窒化チタン膜の改質方法及び改質装置
JP2010027928
Google Patents
Filed: 2/4/2010 Granted: 12/3/2010 302 days
水晶振動用素子の製造方法
JP2010028317
Google Patents
Filed: 2/4/2010 Granted: 6/14/2013 1226 days
炭化水素の接触部分酸化用の触媒及び合成ガスの製造方法
JP2010029844
Google Patents
Filed: 2/12/2010 Granted: 6/14/2013 1218 days
シリカ系塗膜形成用塗布液の調製方法
JP2010031222
Google Patents
Filed: 2/12/2010 Granted: 6/19/2015 1953 days
成膜装置及び成膜方法
JP2010034580
Google Patents
Filed: 2/12/2010 Granted: 4/12/2013 1155 days
フィルタ、携帯端末及び電子部品
JP2010035132
Google Patents
Filed: 2/12/2010 Granted: 8/19/2011 553 days
塗布装置、塗布方法、塗布、現像装置及び記憶媒体
JP2010040921
Google Patents
Filed: 2/18/2010 Granted: 5/27/2011 463 days
水晶振動子用素子、水晶振動子及び電子部品
JP2010041109
Google Patents
Filed: 2/18/2010 Granted: 3/15/2013 1121 days
塗布、現像方法及び塗布、現像装置。
JP2010044233
Google Patents
Filed: 2/25/2010 Granted: 6/22/2012 848 days
液処理装置及び液処理方法並びに記憶媒体
JP2010045185
Google Patents
Filed: 2/25/2010 Granted: 9/27/2013 1310 days
塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体
JP2010045207
Google Patents
Filed: 2/25/2010 Granted: 10/4/2013 1317 days
弾性表面波フィルタ
JP2010050626
Google Patents
Filed: 3/4/2010 Granted: 1/18/2013 1051 days
熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体
JP2010056469
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 11/16/2012 981 days
成膜装置及び成膜方法
JP2010056470
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 2/15/2013 1072 days
成膜装置、成膜方法及び記憶媒体
JP2010056471
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 2/15/2013 1072 days
成膜装置
JP2010056472
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 2/15/2013 1072 days
成膜装置及び基板処理装置
JP2010056477
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 5/10/2013 1156 days
基板の洗浄方法、基板の洗浄装置及び記憶媒体
JP2010056534
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 11/22/2013 1352 days
半導体装置の製造方法
JP2010056579
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 4/5/2013 1121 days
周波数シンセサイザ
JP2010057133
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 2/1/2013 1058 days
搬送容器の開閉装置及びプローブ装置
JP2010067940
Google Patents
Filed: 3/25/2010 Granted: 8/16/2013 1240 days
基板処理装置及び基板搬送方法
JP2010067992
Google Patents
Filed: 3/25/2010 Granted: 9/9/2011 533 days
プローブ装置
JP2010073827
Google Patents
Filed: 4/2/2010 Granted: 6/21/2013 1176 days
プローブ装置
JP2010074091
Google Patents
Filed: 4/2/2010 Granted: 5/31/2013 1155 days
ウエハ位置合わせ装置
JP2010074108
Google Patents
Filed: 4/2/2010 Granted: 5/31/2013 1155 days
塗布、現像装置
JP2010074185
Google Patents
Filed: 4/2/2010 Granted: 12/21/2012 994 days
プローブ装置
JP2010080775
Google Patents
Filed: 4/8/2010 Granted: 8/23/2013 1233 days
成膜装置、基板処理装置、成膜方法及び記憶媒体
JP2010080924
Google Patents
Filed: 4/8/2010 Granted: 2/15/2013 1044 days
成膜装置
JP2010084192
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 7/19/2013 1191 days
プラズマ処理装置
JP2010087227
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 7/12/2013 1184 days
真空処理装置
JP2010087231
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 9/14/2012 883 days
真空処理装置
JP2010087236
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 9/21/2012 890 days
成膜装置
JP2010087238
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 5/23/2014 1499 days
周波数シンセサイザ
JP2010088056
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 7/22/2011 463 days
水晶振動子用素子の製造方法
JP2010098457
Google Patents
Filed: 4/30/2010 Granted: 12/20/2013 1330 days
デュプレクサ
JP2010098551
Google Patents
Filed: 4/30/2010 Granted: 1/25/2013 1001 days
パーティクル捕集装置及びパーティクル捕集方法
JP2010099617
Google Patents
Filed: 5/6/2010 Granted: 4/18/2014 1443 days

Clients (7)

国立大学法人山梨大学
大阪瓦斯株式会社
日揮ホールディングス株式会社
日揮触媒化成株式会社
日本電波工業株式会社
東京エレクトロン株式会社
鶴見曹達株式会社
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