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星宮　勝美

Code: 100107559

72.7%
Success Rate
Granted / 特許査定
16
72.7% of total
Not Granted / 非特許
6
27.3%
Avg. Time / 平均期間
1119d
~3.1 yrs
Total / 総出願数
22
Applications

Patent Status

16 Granted / 特許査定
72.7%
6 Not Granted / 非特許
27.3%

Time to Grant (days from publication)

Min
505
days
Median
1198
days
Max
1485
days
Based on 16 granted patents

Charts

Success Rate Trend / 特許率の推移

Time To Grant Trend (Days) / 特許査定期間の推移（日数）

Patent Volume By Year / 年別特許件数

Performance by Year

Year Granted Not Granted Rate
2010 16 6 72.7%

Granted Patents (16)

積層チップパッケージの製造方法
JP2010004048
Google Patents
Filed: 1/7/2010 Granted: 12/13/2013 1436 days
積層チップパッケージの製造方法
JP2010016373
Google Patents
Filed: 1/21/2010 Granted: 1/10/2014 1450 days
積層チップパッケージ
JP2010016374
Google Patents
Filed: 1/21/2010 Granted: 5/24/2013 1219 days
積層チップパッケージ
JP2010016375
Google Patents
Filed: 1/21/2010 Granted: 1/24/2014 1464 days
積層型電子部品
JP2010028767
Google Patents
Filed: 2/4/2010 Granted: 9/16/2011 589 days
積層型電子部品
JP2010041266
Google Patents
Filed: 2/18/2010 Granted: 1/13/2012 694 days
回路配線基板の製造方法
JP2010045231
Google Patents
Filed: 2/25/2010 Granted: 10/26/2012 974 days
回路配線基板の製造方法
JP2010045232
Google Patents
Filed: 2/25/2010 Granted: 10/26/2012 974 days
積層チップパッケージおよびその製造方法
JP2010050453
Google Patents
Filed: 3/4/2010 Granted: 5/24/2013 1177 days
電子部品およびその製造方法
JP2010056111
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 5/10/2013 1156 days
基板載置台の降温方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および基板処理システム
JP2010073727
Google Patents
Filed: 4/2/2010 Granted: 10/12/2012 924 days
一対のシールド層に結合する一対の自由層を有する磁気抵抗効果素子
JP2010086648
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 9/2/2011 505 days
プラズマ処理装置
JP2010087184
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 9/6/2013 1240 days
シリコン酸化膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマ酸化処理装置
JP2010087185
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 9/6/2013 1240 days
窒化珪素膜の成膜方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマＣＶＤ装置
JP2010087186
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 1/24/2014 1380 days
メモリデバイスを実現する積層チップパッケージ
JP2010087502
Google Patents
Filed: 4/15/2010 Granted: 5/9/2014 1485 days

Clients (5)

ヘッドウェイテクノロジーズ　インコーポレイテッド
新科實業有限公司
日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社
東京エレクトロン株式会社
ＴＤＫ株式会社
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