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沖田 英樹

Code: 100140578

84.6%
Success Rate
Granted / 特許査定
11
84.6% of total
Not Granted / 非特許
2
15.4%
Avg. Time / 平均期間
1339d
~3.7 yrs
Total / 総出願数
13
Applications

Patent Status

11 Granted / 特許査定
84.6%
2 Not Granted / 非特許
15.4%

Time to Grant (days from publication)

Min
134
days
Median
1394
days
Max
2654
days
Based on 11 granted patents

Charts

Success Rate Trend / 特許率の推移

Time To Grant Trend (Days) / 特許査定期間の推移(日数)

Patent Volume By Year / 年別特許件数

Performance by Year

Year Granted Not Granted Rate
2010 11 2 84.6%

Granted Patents (11)

感光性接着剤組成物、並びにこれを用いて得られる接着フィルム、接着シート、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置及び電子部品
JP2010007073
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 2/1/2013 1114 days
半導体装置の製造方法
JP2010010690
Google Patents
Filed: 1/14/2010 Granted: 1/10/2014 1457 days
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品
JP2010015101
Google Patents
Filed: 1/21/2010 Granted: 11/15/2013 1394 days
熱硬化性樹脂組成物、これを用いた光半導体素子搭載用基板及びその製造方法並びに光半導体装置
JP2010047740
Google Patents
Filed: 3/4/2010 Granted: 5/30/2014 1548 days
熱硬化性樹脂組成物、これを用いた光半導体素子搭載用基板及びその製造方法並びに光半導体装置
JP2010047741
Google Patents
Filed: 3/4/2010 Granted: 8/22/2014 1632 days
絶縁被覆導電粒子
JP2010050086
Google Patents
Filed: 3/4/2010 Granted: 11/14/2014 1716 days
永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板
JP2010055125
Google Patents
Filed: 3/11/2010 Granted: 1/25/2013 1051 days
ナノインプリント用モールド
JP2010076211
Google Patents
Filed: 4/8/2010 Granted: 9/27/2013 1268 days
両面接着フィルム及びこれを用いた電子部品モジュール
JP2010077378
Google Patents
Filed: 4/8/2010 Granted: 7/14/2017 2654 days
フォトマスク加工及び半導体処理において使用する増感され化学的に増幅されたフォトレジスト
JP2010092058
Google Patents
Filed: 4/22/2010 Granted: 5/18/2012 757 days
熱硬化性樹脂組成物、エポキシ樹脂成形材料、光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置
JP2010100798
Google Patents
Filed: 5/6/2010 Granted: 9/17/2010 134 days

Clients (5)

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
国立大学法人東京科学大学
国立研究開発法人産業技術総合研究所
株式会社レゾナック
ENEOS株式会社
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